Schnee für höchste Reinheit und zuverlässige Funktion

Zunehmend kleinere Strukturen bei gleichzeitig steigenden Anforderungen an Zuverlässigkeit und Lebensdauer erfordern in der Elektronikfertigung eine zuverlässige und bedarfsgerechte Reinigung. Die trockene quattroClean-Schneestrahltechnologie ermöglicht, unterschiedliche Reinigungsaufgaben effizient und inline zu lösen – auch in Reinräumen.

Die klimaneutrale und skalierbare quattroClean-Schneestrahltechnologie der acp systems AG ist ein trockenes, Industrie 4.0-komplatibles Reinigungsverfahren, das sich bei unterschiedlichsten Anwendungen in der Elektronikfertigung bewährt hat. Dazu zählen die ganzflächige oder partielle Abreinigung partikulärer und/oder filmischer Kontaminationen von passiven Bauelementen sowie vor beziehungsweise nach dem Bonden, dem Bestücken von Leiterplatten und Folienleiterplatten. Die Entfernung von Ablationsrückständen bei der MID-Herstellung ist ebenfalls ein Einsatzbereich. Eine weitere Anwendung ist die Reinigung optischer Komponenten in der EUV-Lithographie, die sehr stark mit Anhaftungen und Schmauchspuren verschmutzt sind. Das Industrie 4.0-kompatible Verfahren lässt sich problemlos für reine Umgebungen beziehungsweise Reinräume auslegen und integrieren.

Trocken und rückstandsfrei reinigen


Medium bei diesem Reinigungsverfahren ist flüssiges, unbegrenzt haltbares Kohlendioxid, das als Nebenprodukt bei chemischen Prozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse entsteht. Es wird durch eine patentierte, verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse geleitet und entspannt beim Austritt aus der Düse zu feinem CO2-Schnee. Dieser Kernstrahl wird von einem separaten, ringförmige Druckluft-Mantelstrahl gebündelt und auf Überschallgeschwindigkeit beschleunigt. Beim Auftreffen des gut fokussierbaren Schnee-Druckluftstrahls auf die zu reinigende Oberfläche kommt es zu einer Kombination aus thermischem, mechanischem, Sublimations- und Lösemitteleffekt. Das Zusammenspiel dieser vier Wirkmechanismen entfernt partikuläre und filmische Verunreinigungen prozesssicher mit reproduzierbarem Ergebnis. Da die Reinigung materialschonend erfolgt, können auch empfindliche und fein strukturierte Oberflächen behandelt werden.

Abgelöste Verunreinigungen werden durch die aerodynamische Kraft der Druckluft weggeströmt und durch eine integrierte Absaugung entfernt. Für eine gleichbleibend hohe Prozessqualität kann die Strahlkonsistenz jeder Düse einzeln kontinuierlich mit einem Sensorsystem überwacht, die ermittelten Werte automatisch gespeichert und an ein übergeordnetes System übergeben werden.

acp systems AG, 71254 Ditzingen, www.acp-systems.com

Über die acp systems AG

1997 in Stuttgart gegründet, zählt die acp systems AG heute zu den internationalen Markt- und Technologieführern, wenn es um effiziente CO2-Schneestrahlreinigung geht. Die patentierte quattroClean-Technologie des Unternehmens ermöglicht die trockene, material- und ressourcenschonende Entfernung partikulärer und filmischer Verunreinigungen von nahezu allen technischen Werkstoffen. Das trockene Verfahren ist darüber hinaus für die Behandlung elektronischer und elektromechanischer Komponenten mit reproduzierbarem Ergebnis einsetzbar. Die Reinigung mit dem skalierbaren und Industrie 4.0-fähigen quattroClean-System kann ganzflächig oder partiell, beispielsweise an Schweiß-, Klebe-, Dicht- und Bondflächen, erfolgen. Eine weitere Kernkompetenz der acp liegt in der Automatisierung der Reinigungsprozesse und deren Integration in verkettete Fertigungs-, Montage und Beschichtungslinien.

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